国产光刻机SMEE下线，却有人反问能生产几厘米芯片？让人心痛

　　7月20日，由我国上海微电子装备有限公司研发的国产首台封装光刻机SMEE正式搬入青岛富士康半导体厂房，该光刻机项目将于10月底竣工，今年年底就能够实现量产36万片晶圆。这也是郭台铭首次涉猎半导体行业。根据业内人士预测，该光刻机制程加工工艺大概在6590nm。其实这个时候，多少nm的制程已经不是最重要的，而是我们解决了（有）和（没有）的问题。
　　可是就在我国最新光刻机SMEE正式进入新厂开展新的历程之时，这本来是一个值得庆祝的日子，却因为网络上某些网友贬低的言论而变得异常紧张起来。这些网友嘲讽的说到，这一次的国产光刻机的加工工艺是几厘米？他们似乎忘记了，即使是他们口中吹上天的荷兰阿斯麦生产的EUV光刻机，也一样不是阿斯麦独家垄断的尖端科技，而是全世界包括美国、日本、德国、英国、韩国这些国家之中的顶尖半导体公司的技术集成才做出来的。
　　中国在这方面，被美国和西方全面技术封锁长达半个世纪，几乎没有一丝借鉴可言，全凭我国一己之力在光刻机各个核心部件之中进行突破，说句你们不爱听的话，我们就是一个国家和全世界在光刻机领域内进行比赛，即使最后我们输了也同样不丢人，更何况我们现在成功了。我们能够在短短几年时间就在芯片制造领域内突破到65nm，并且这一项的所有核心技术都握在我们自己手中，这难道不是一个奇迹吗？
　　即使与荷兰阿斯麦比，我国依旧比阿斯麦更具优势。要知道，现在我们有了65纳米芯片加工技术，十年后我们就有可能突破到7纳米芯片加工工艺。而阿斯麦想要突破更高的纳米芯片制程，就必须解决量子遂穿效应的问题，否则只会永远停留于当前技术水平，而我们，则能够迅速的达到阿斯麦目前的技术水平，即使以后人类科学家真的研发出，能够解决量子遂穿效应对生产低纳米芯片所造成问题的科技技术，而此时的我们或许也研发出了足够多的技术积累。
　　十年时间将是中国反超美国的绝境逢生之路，虽然十年时间很漫长。但是这对每一种科技技术来说，也是到了关键时期必须经历的过渡期，即使是所有人大力吹捧的荷兰阿斯麦也有过低迷的时期。而你们不知道的是，强如荷兰阿斯麦这样的世界尖端科技公司，在七八十年代时，却不是中国的对手，我们曾经在1965年就研发出我国国内第一台接触式光刻机。而当时的荷兰阿斯麦才成立不到两年时间。
　　很多人以为荷兰阿斯麦很强大，不可否认，阿斯麦在高端光刻机领域的技术实力，是绝对不容忽视的，荷兰能够以后来者居上并实现超越我国，除了集合全世界的技术他们在光刻机领域的投资达到了上百亿欧元，可以说EUV光刻机不光是全世界技术集成做起来的，同时也是用金钱砸出来的尖端科技。但是实际上阿斯麦在整个EUV光刻机之中的占比率还处于垫底。因为整个阿斯麦的EUV光刻机核心部件之中，荷兰腔体和英国真空系统占比为30，美国光源占比29，日本材料占比27，德国光学系统占比14。
　　不知道这些吹捧阿斯麦的人究竟对EUV光刻机核心部件的占比是不是真的很懂？但是用国产光刻机这次能生产几厘米芯片这种明显带有偏见的话语，去质疑我国最新65nm加工工艺的SMEE光刻机，是很反智的行为，即使该国产光刻机目前只能生产出最高65nm芯片，但是其核心部件却全部都是我国自主掌握的尖端科技，和西方比哪怕是和美国比，中国具有绝对的后发优势。而我国这一台MSEE光刻机也绝不会止步于此，它的降临就是对荷兰阿斯麦的一种挑战，面对能不能以一国之力挑翻荷兰阿斯麦和美国等全世界半导体强国，我国的技术人员的压力是无比巨大的，这是一场荣誉之战。
　　而那些质疑的网友明显是目光短浅的一类人，他们的质疑不会阻断中国在科技领域内的创新发展，也阻止不了我们实现中华民族伟大复兴的宏伟愿景。其实我很想对那些质疑的网友们说几句话，站起来吧，别让你的后代也瞧不起你，难道你们还想用市场换技术，造不如买的思想还要再来洗礼中国的科技行业你们才满意？一定要让我们全面受制于人你们才开心？要知道我们在光刻机领域内的研发是一个及其消耗时间并且还随时面临失败的艰辛历程，我们的科研人员们日复一日的搞研发究竟是为了什么？不就是为了中国不在被欺辱吗？就凭这一点，我们难道不应该大力支持吗？大家都有点耐心吧，再给他们一些时间，我们的科技人员不比任何人差，他们一定能够在光刻机领域再次突破。就像我之前在一篇文章中提到过的一样。给我们二十年时间能不能超过美国？
　　我可以负责任的告诉你们，只要我们能够在之后依旧保持着现在和平高速的发展，超越美国必然是板上钉钉的事情。饭要一口一口吃，才能够不被噎着，一口气也吃不成一个大胖子，我理解很多人是出于恨铁不成钢的心态发出的错误的言论，曾经我也有过这样经历，但是我们应该及时的意识到自己的错误，其实国家已经越来越强大，这是我们能够亲身感受到的，而这强大的祖国背后是无数人默默付出而得出的成果。