在芯片危机席卷而来的当下,我国在芯片领域的薄弱凸显出来,光刻机、刻蚀机、薄膜沉积等芯片制造的核心环节都有所欠缺。其中,不仅是光刻机引起了广大网友的注意,刻蚀机也颇受关注。而最近,刻蚀机的研究取得了进展。 就在不久前,中微公司首台8英寸CCP刻蚀设备PrimoADRIE200顺利交付,其实现了技术和生产效率方面的提升,可灵活配置6个反应台,能够满足不同客户8英寸晶圆的加工需求。另外,如果客户的生产线扩产,其还能够灵活提供可升级至12英寸刻蚀设备系统的解决方案,是我国刻蚀机的一大进步。