事关国产EUV，日本光刻胶巨头泼冷水，ASML却不同意

　　台积电在美建芯片厂之后，又选择去日本建厂，一方面是因为日方将会提供近一半的补贴，另一方面也非常关键，那就是台积电想利用日本在芯片制造材料方面的优势。
　　日本原来在半导体方面很厉害，后来被美搞残了，但在芯片材料上却做到了全球领先，比如光刻胶。近日，日本光刻胶巨头突然对我国EUV泼冷水，这是什么情况呢？
　　日本光刻胶巨头泼冷水
　　EUV光刻机是制造7nm及以下高端制程芯片的关键设备，但ASML受美限制，不能出货给中企，这直接限制了我们向高端芯片制造发展。为此，我们只能去突破EUV。
　　近两年芯片规则的改变，台积电停止了华为的芯片代工，而大陆目前还做不了高端芯片，麒麟芯片无处代工给华为手机业务造成了不小影响，让我们认识到必须突破EUV。
　　虽然现在成熟制程芯片是主流，但我们只有追求先进制程，才能取得更大的进步。
　　就像我们投入巨资研发航天，虽然看起来对日常发展用处不大，但在研发攻坚的过程中，就会催生出多项先进技术，很多都能用于改变生活，其实追求先进制程也是如此。
　　但就在我们已经掀起芯片建设热潮、芯片产业链各个环节都在不断突破、EUV技术也在推进的关键时刻，日本光刻胶巨头却突然提到国产EUV，说我们不可能突破EUV。
　　说这话的是日本JSR公司的CEO，这家公司主营光刻胶，是全球光刻胶巨头之一。
　　这个CEO近日在接受采访时表示，中国很难掌握基于极紫外光刻或者被称为EUV光刻的复杂芯片制造技术。有意思的是，他的说法很快被众多国外网友给狠狠反驳了。
　　首先，他是芯片材料领域的，虽是业内人士，但不一定了解大陆的发展情况。很多网友表示他在低估大陆人的创造力了，他们一定会成功，只是时间问题，十年都不用到。
　　其次，这个CEO是的日本工作的美籍人，且发表意见正是拜登参观三星芯片厂时。
　　ASML总裁有不同看法
　　这就非常明显了，发表的意见肯定不客观，很有可能是为了迎合而发表的。当时，拜登正在参观三星的3nm芯片厂，期间还谈到了EUV光刻机是必不可少的设备。
　　再者，连光刻机巨头ASML的CEO都不敢这么说，虽然他表示大陆不太可能做出EUV光刻机，但他又表示没那么绝对，因为物理定律全球是一样的，他们肯定会尝试。
　　甚至ASML总裁还发出警告，如果再限制EUV，用不了15年大陆将会突破所有。
　　光刻机巨头的总裁对EUV的看法应该最权威了吧，没有人会比他更了解光刻机，连他都表示，只要有时间中国一定会突破，光刻胶巨头对国产EUV的看法就没意义了。
　　就拿光刻胶来说，日本方面确实领先，能够量产包括EUV光刻胶在内的各种型号，曾经一度垄断。但如今在光刻胶方面，国产也在不断突破，已取得了非常大的进步。
　　除EUV光刻胶外，g线、i线、KrF、ArF等均能做，其中ArF光刻胶能用于7nm。
　　ArF光刻胶稳定之后，自然就会向EUV光刻胶挺进，相信一定能够突破。国产芯片供应链也有不少达到高端，像蚀刻机已做到5nm，近日电子级氢氟酸也达最高级别。
　　还有前道芯片制造用的DUV光刻机也在突破，据说28nm级别正在改进即将突破。
　　重点是EUV光刻机，相关技术已经布局多年，中科院也申请了不少EUV专利，近期还在招聘EUV技术实际操作人才。可见，极有可能国产EUV即将进入新的攻坚阶段。
　　对于EUV光刻机，最明白的莫过于ASML了，从近段时间表现来看，其实已开始焦虑了。尤其总裁直接表示，限制EUV只会促进大陆技术突破，我们将彻底失去市场！
　　EUV光刻机虽然复杂，但只要我们下定决心去突破，相信国产EUV必然会实现！