中国芯片破冰新技术，投入使用或将震惊国际，老美绝不可能

　　芯片的发展，早就成为了另类的战争，从网络媒体到移动支付，从小数据累积成大数据，再转换到基础建设的运用，网络技术的突破，令全世界掀起了，关于半导体领域的研究热潮，尤其是中国华为5G的突破，这其中不仅令国人感到无比自豪，更多的是中国发展的感叹，中国信息产业的迅猛发展，在走在科技前沿的路上，我们不难发现，关于科技霸权的舆论，大多都如同云端一般漂浮着，在中国科技崛起以后，美国的做法与往常一样，采用着别致的降维打击，企图将国产芯片扼杀在摇篮里，所以中国半导体的发展之路，也是充满了艰辛。
　　尽管科技的发展道路上，充满了荆棘与阻碍，国人依然能够迎来好消息，就在不久之前，云南大学传来捷讯，科研人员经过长时间的研究，终于突破了芯片制作的原材料，迎来了性能更加完美的新材料，制作完成或将优于第三代半导体，新材料的突破，令很多半导体领域的爱好者，都开始兴奋不已，在信息科技研究领域，能够发现新材料真的太重要了，那么芯片工艺究竟有多难呢？，新材料的突破能为芯片领域带来什么？
　　半导体芯片的存在，是整个科技领域发展的核心，任何的领域都离不开芯片，在以前的芯片制作上，都是运用硅基半导体材料，它可以令芯片，实现从零到80分的跨越，但这80分对于现在的需求来说，还是远远不够的，要达到更高水准的要求，就必须突破眼前的瓶颈，而寻找新的材料，将是首要解决的难题，而现在独领鳌头的芯片工艺制程，则是5NM，而3nm则被台积电和三星，争夺得你死我活，此前三星宣布其3nm芯片，将进行流片阶段，而台积电3nm芯片，要等到年底才能流片，所以三星现在算是比，台积电研发速度快的企业，之前台积电联合，麻省理工大学宣布，其在1nm上取得了，很大的突破性研究，而我国云南大学更是找到了，比台积电1nm更先进的材料，可以说是突破了芯片新材料的瓶颈，台积电在芯片方面的造诣，迫使其还没有正式推出，3nm芯片的时候，就已经开始抓紧寻找，1nm芯片材料的事项。
　　而台积电则是，联合麻省理工学院，正式在1nm芯片材料研究上宣布，已经有了有了很大的突破，通过铋元素的研究，可以在1nm芯片制作过程中，起到很大的作用，台积电对于1nm材料的研究了，可以说是世界级水平的，但是我国云南大学通过与，能源学院团队的共同研发，研究表明在芯片材料方面，通过石墨烯可以实现，碳基芯片的制作，具体的是，通过石墨烯硫化铂，来解决芯片的材料问题，这一研究成功突破了，1nm芯片材料的瓶颈了，给我国国产芯片的生产，奠定了夯实的基础，那么相比于传统芯片材料，云南大学在硫化铂的突破上，到底有什么实际意义呢？
　　未来能给芯片行业，提供什么框架基础呢？我们都知道，硅基芯片材料，是现在业内的主流，可从性能方面分析，石墨烯材料的性能，实际上是优于碳基芯片的，只不过是在内部结构上不稳定，再加上提纯困难，石墨烯的应用范围，无形中受到了限制，但如果将石墨烯和硫化铂，放在一起进行比较，在性能上石墨烯，还不是硫化铂的对手，在内部结构的稳定性上，硫化铂要比石墨烯更稳定，在透光性上的优势，也要更加明显，另外提纯难度上，也比石墨烯要方便一些，毕竟从化学角度分析，硫化铂属于过渡金属硫族化合物，再加上硫化铂还有较高的可塑性，它也曾被看作是，芯片行业未来的候选材料之一，不过硫化铂如此受关注的原因，其实还有一个，它的出现可能会终结，台积电在芯片行业的领军地位，作为化合物类型的半导体材料，硫化铂属于石墨烯中的一类，曾经的石墨烯也是热门材料之一，尽管石墨烯这类，碳基芯片的功耗非常低，但制备晶圆的难度，却比硅基高出好几个档次。
　　再加上其具备的零带隙，对光的吸收率低等特点，石墨烯并没有我们想象的，那么适用于生产芯片，而硫化铂却不同，它不仅拥有和石墨烯相似的，范德华力结构的层状结构，还拥有比较宽且可供调节的带隙，在光、磁等相关性能上，也是相当优越的了，并且更加稳定，更具透光性，这些优势让硫化铂，成为用于延续摩尔定律的，最佳候选材料之一，因此无论从哪一方面看，硫化铂都优于石墨烯，而硫化铂与铋元素最大的区分点，就在于储备极大，因此价格成本也低得多，加上融合研制的手法，也相对得简单，在研制方面难度，可以说小得多，甚至可以缩短研发周期，而最重要的一点，就是研发出来的产品，性能非常高。
　　此次云南大学突破了，这一材料技术，肯定会率先帮助，国产芯片水平的提高，到那时说不定还会，绕开传统芯片工艺的阻碍，实现换道超车，在新材料半导体领域内一马当先，前微软公司创始人比尔盖茨曾说过，向中国断供芯片，只会逼着他们自给自足，然而不出几年，中国将突破芯片限制，如今看来这一切似乎要成真了，一旦中国芯片量产化落地，那中国必将掌握话语权，作为世界范围的芯片生产突破，引发了全球的关注，中国的芯片行业，再一次登上世界舞台，如今我国正在面临，严重缺芯的问题，虽然完全国产的芯片研究，正处于瓶颈之际，但云南大学破冰新材料，可以说相当振奋人心，硫化铂材料的研发，会提高国产芯片水平的，还会在绕开传统芯片工艺的阻碍，在另一个方向，打通中国对芯片研究的道路，尽管发现新材料，只是芯片研制的一个起点，想要真正实现国产芯片自立自强，还有很长的路要走，但是能够打下夯实的基础，才是前进道路上最基本的动力。